«РАДИОЭЛЕКТРОННАЯ ОТРАСЛЬ:
ПРОБЛЕМЫ И ИХ РЕШЕНИЯ»
Московская область, г. Мытищи, ул. Колпакова, д. 2А
+7 (495) 586-17-21, +1356
+7 (495) 055-05-99
Главная
О журнале
Для авторов
Архив
Подписка
Адрес редакции
ФГБУ «ВНИИР»
АНО «Электронсертифика»
Поиск
Найдено: 2
УНИВЕРСАЛИЗАЦИЯ МИКРОСХЕМ НИЗКОЙ СТЕПЕНИ ИНТЕГРАЦИИ ПРИ ПЕРЕНОСЕ ИХ ПРОИЗВОДСТВА НА СОВРЕМЕННЫЕ ТЕХНОЛОГИЧЕСКИЕ НОРМЫ
Страница 15
UNIVERSALIZATION OF LOW-DEGREE INTEGRATION MICROCIRCUITS WHEN TRANSFERING THEIR PRODUCTION TO MODERN TECHNOLOGICAL STANDARDS
Page 15
НАБЛЮДЕНИЕ ФОРМИРОВАНИЯ ПРОТЯЖЕННЫХ ДЕФЕКТОВ В КРЕМНИИ В СКАНИРУЮЩЕМ ЭЛЕКТРОННОМ МИКРОСКОПЕ В ПРОЦЕССЕ ОТЖИГА IN-SITU
Страница 14
OBSERVATION OF EXTENDED DEFECT FORMATION IN SILICON USING A SCANNING ELECTRON MICROSCOPE DURING IN-SITU ANNEALING
Page 14
